ПОЛУЧЕНИЕ ПЛЕНОК CdTe МЕТОДОМ МАГНЕТРОННО-ИОННОГО РАСПЫЛЕНИЯ

Abstract

Материалы CdTe методом распыления магнетрона изготовлены в основном газотранспортной реакции в потоке водорода на молибденовые и графитовые подложки при высокой температуре зоны порядка Т6009500С. Для испарения использовались мелко зерновые порошки CdTe. Были опробованы разные режимы выращивания плёнок, и также менялись расстояния испаритель-подложка. Мишени получались разными по структуре и по толщине. Толщина d100500 мкм, диаметр D45cм. Общее количество мишени,  опробованные в плазме порядка 30шт.Качественные наилучшие образцы для мишени получены, тогда температура источника Ти=9500С и температура подложки Тп=7000С, а расстояние между источником и подложкой  равно 2см